镀膜产业

真空镀膜是指在高真空环境状态下，利用物理方法在对象的表面镀上一层薄膜的技术。

真空镀膜技术PVD（Physical vapor deposition）物理气相沉积技术，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在物件上的薄膜制作技术。 主要方法包括蒸镀、溅镀和离子镀; 和化学气相沉积相比，物理气相沉积适用范围较广泛。

✽蒸镀：（Evaporative PVD）在高真空的腔体中，利用电热丝或电子束加热升温达到熔化、气化的温度后，使材料蒸发并附着在物件表面上的技术。

✽溅镀：（Sputtering PVD）是在真空条件下通入惰性气体，利用高电压场作用将高能量粒子打到靶材表面，将靶材表面的物质测出附着堆积在对象或薄膜上。

✽离子镀：（Ion Plating PAPVD）

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